An approach for singlecrystalline zinc oxide thin film with fine channel mist CVD method
An approach for singlecrystalline zinc oxide thin film with fine channel mist CVD method
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细通道雾气CVD法制备单晶氧化锌薄膜的方法
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Toshiyuki Kawaharamura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
吉元 貴志;李維涛;李維涛;李維涛;李維涛;李維涛;李維涛;Toshiyuki Kawaharamura;Toshiyuki Kawaharamura;Toshiyuki Kawaharamura
影响因子：
1.5
作者：
H. Nishinaka;T. Kawaharamura;S. Fujita
通讯作者：
H. Nishinaka;T. Kawaharamura;S. Fujita
影响因子：
1.8
作者：
Lu, J. G.;Kawaharamura, T.;Fujita, S.
通讯作者：
Fujita, S.