Bayesian Optimization of Hydrogen Plasma Treatment for Reducing Defects in Silicon Quantum Dot Multilayers

Bayesian Optimization of Hydrogen Plasma Treatment for Reducing Defects in Silicon Quantum Dot Multilayers
复制标题

用于减少硅量子点多层缺陷的氢等离子体处理的贝叶斯优化

DOI:
--
复制
发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
Yasuyoshi Kurokawa
Yasuyoshi Kurokawa
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
Fuga Kumagai;Shinsuke Miyagawa;Kazuhiro Gotoh;Satoru Miyamoto;Kentaro Kutsukake;Shinya Kato;Noritaka Usami;Yasuyoshi Kurokawa

文献摘要

参考文献

被引文献

相似文献

DOI: 10.1063/1.2203394
发表时间: 2006-06-01
影响因子: 3.2
作者:
Jiang, CW;Green, MA
通讯作者: Green, MA
DOI: 10.7567/jjap.52.04cr02
发表时间: 2013
影响因子: 1.5
作者:
S. Yamada;Y. Kurokawa;S. Miyajima;M. Konagai
通讯作者: M. Konagai
非晶SiC、Si0.66C0.33N1.33和SiN1.33薄膜中陷阱限制氢扩散的比较研究
DOI: 10.1088/0953-8984/18/23/009
发表时间: 2006
期刊: Journal of Physics: Condensed Matter
影响因子: --
作者:
H. Schmidt;G. Borchardt;U. Geckle;M. Bruns;H. Baumann
通讯作者: H. Baumann
a-Si:H 中的亚稳定性和氢分布
DOI: 10.1063/1.41031
发表时间: 2008
期刊: --
影响因子: --
作者:
R. Street
通讯作者: R. Street
DOI: 10.1103/physrevb.85.165306
发表时间: 2012-04-12
期刊: PHYSICAL REVIEW B
影响因子: 3.7
作者:
Hartel, A. M.;Gutsch, S.;Zacharias, M.
通讯作者: Zacharias, M.