Deposition of Cu and Ru thin films in deep nanotrenches/holes using supercritical carbon dioxide
Deposition of Cu and Ru thin films in deep nanotrenches/holes using supercritical carbon dioxide
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使用超临界二氧化碳在深纳米沟槽/孔中沉积铜和钌薄膜
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
E.Kondoh
中科院分区：
文献类型：
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作者：
E.Kondoh;K.Shigama;E.Kondoh;E.Kondoh;E.Kondoh
双乙基环戊二烯基钌前驱体化学气相沉积法制备Ru薄膜的生长机理
影响因子：
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作者：
Y. Matsui;M. Hiratani;T. Nabatame;Y. Shimamoto;S. Kimura
通讯作者：
S. Kimura
Ru 的化学气相沉积及其在用于未来动态随机存取存储器的 (Ba,Sr)TiO3 电容器中的应用
DOI：
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发表时间：
1999
期刊：
影响因子：
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作者：
T. Aoyama;M. Kiyotoshi;S. Yamazaki;KazuhiroEguchi KazuhiroEguchi
通讯作者：
KazuhiroEguchi KazuhiroEguchi