Mapping of properties of thin plasma jet films using imaging spectroscopic reflectometry
Mapping of properties of thin plasma jet films using imaging spectroscopic reflectometry
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使用成像光谱反射仪绘制等离子体射流薄膜的特性图
DOI：
10.1088/0957-0233/25/11/115201
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发表时间：
2014
影响因子：
2.4
通讯作者：
L. Zajíćková
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
D. Nečas;V. Čudek;J. Vod’ak;M. Ohlídal;P. Klapetek;J. Benedikt;K. Rügner;L. Zajíćková
描述了一种用于映射薄膜性质的正入射成像分光光度计的构造。它是基于轴上反射成像系统，利用类似望远镜的安排。采用电荷耦合器件相机作为探测器，测量光谱范围为275-1100 nm，分辨率为37µm。通过在大气压下用毛细管等离子体射流在硅衬底上沉积六甲基二硅氧烷高度不均匀薄膜的光学表征，证明了该仪器的性能。成像分光光度法是一种自给自足的测定薄膜光学常数和局部厚度图的技术。将厚度图与传统的厚度轮廓表征方法、轮廓术和原子力显微镜的结果进行了比较，并讨论了差异和误差。
The construction of a normal-incidence imaging spectrophotometer for mapping of thin film properties is described. It is based on an on-axis reflective imaging system, utilising a telescope-like arrangement. A charge-coupled device camera is used as the detector, permitting measurements in the spectral range of 275–1100 nm with resolution of 37 µm. The performance of the instrument is demonstrated by optical characterisation of highly non-uniform thin films deposited from hexamethyldisiloxane on silicon substrates by a single capillary plasma jet at atmospheric pressure. The imaging spectrophotometry is used as a self-sufficient technique for the determination of both the film optical constants and maps of local thickness. The thickness maps are compared with the results of conventional thickness profile characterisation methods, profilometry and atomic force microscopy and the differences and errors are discussed.
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DOI：
10.1002/pssa.200777855
发表时间：
2008-04-01
影响因子：
2
作者：
Asinovski, L.;Beaglehole, D.;Clarkson, M. T.
通讯作者：
Clarkson, M. T.