Oxidative Addition Reactions of Low‐Valent Gallium Compounds with Primary Phosphanes
Oxidative Addition Reactions of Low‐Valent Gallium Compounds with Primary Phosphanes
复制标题
低价镓化合物与初级膦的氧化加成反应
DOI：
10.1002/ejic.202100723
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发表时间：
2021
影响因子：
2.3
通讯作者：
C. von Hänisch
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
S. Schneider;C. von Hänisch
（Dipp 2NacNac）Ga与伯甲硅烷基膦R2 R 'Si-PH 2在甲苯中的氧化加成反应导致磷镓烷（Dipp 2NacNac）GaH（PHSiR 2 R'）; R= R '= Me（1），R=Me，R'= Thex（2），R= R '= iPr（3）和R=Ph，R'= tBu（4）。从二磷烷1 Pr 2Si（PH 2）2开始的相同反应产生二镓烷{（Dipp 2NacNac）GaH（PH）}2（SiiPr 2）（5a）。相反，与超甲硅烷基膦的反应导致（Me 3Si）3SiH的消除和二磷杂镓烷（Dipp 2NacNac）Ga（PH 2）（PHSi（SiMe 3）3）（6）的形成。在甲苯中，主要的有机膦基BuPH 2表现出类似的反应行为，但同时生成二和单磷镓烷（Dipp 2NacNac）GaX（PHtBu）（7 a：X= PH 2，7 B：X=H）。在一排使用的溶剂中，只有吡啶导致选择性地形成7 b，因此我们测试了该溶剂对Pr 2Si（PH 2）2与仅一当量的（Dipp 2NacNac）Ga的反应的影响，该反应产生化合物（Dipp 2NacNac）GaH（PHSiiPr 2 PH 2）（5 B）。此外，通过（Dipp 2NacNac）GaCl 2与iPr 3SiPHLi的反应，获得了化合物3的衍生物（Dipp 2NacNac）GaCl（PHSiPr 3）（8），其中Cl原子与镓键合而不是与氢键合。
Oxidative addition reactions of (Dipp2NacNac)Ga with the primary silylphosphanes R2R'Si‐PH2in toluene led to the phospha‐gallanes (Dipp2NacNac)GaH(PHSiR2R’); R=R’=Me (1), R=Me, R’=Thex (2), R=R’=iPr (3) and R=Ph, R’=tBu (4). The same reaction starting from the diphosphaneiPr2Si(PH2)2yields the digallane {(Dipp2NacNac)GaH(PH)}2(SiiPr2) (5 a). In contrast, reaction with the hypersilylphosphane resulted in the elimination of (Me3Si)3SiH and formation of the diphospha‐gallane (Dipp2NacNac)Ga(PH2)(PHSi(SiMe3)3) (6). The primary organo‐phosphanetBuPH2shows a similar reaction behavior in toluene though both the di‐ and monophospha‐gallanes (Dipp2NacNac)GaX(PHtBu) (7 a: X=PH2,7 b: X=H) occur. In a row of used solvents, only pyridine led selective to the formation of7 bthus we tested the influence of this solvent on the reaction ofiPr2Si(PH2)2with only one equivalent (Dipp2NacNac)Ga which yields the compound (Dipp2NacNac)GaH(PHSiiPr2PH2) (5 b). Additionally, a derivative of compound3, (Dipp2NacNac)GaCl(PHSiiPr3) (8), with an Cl atom bond to gallium instead of a hydrogen was obtained by the reaction of (Dipp2NacNac)GaCl2withiPr3SiPHLi.
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通知：硅和磷的新水处理。 Das Silylphosphin SiH3 · PH2。
DOI：
10.1515/znb-1953-1212
发表时间：
1953
期刊：
Zeitschrift für Naturforschung B
影响因子：
--
作者：
G. Fritz
通讯作者：
G. Fritz
Niedermolekulare III/V-Komplexe、ein möglicher neuer Weg zu Galliumarsenid und verwandten Halbleitern
影响因子：
--
作者：
A. H. Cowley;Richards A. Jones
通讯作者：
Richards A. Jones
二膦基二硅烷 iPr4Si2(PH2)2、zyklischen Silylphosphans (iPr2Si)3PH 的合成和金属化以及 zyklischen Siloxylphosphans tBu2Si(OSiiPr2)2PH 的合成和金属化
DOI：
10.1002/zaac.200700180
发表时间：
2007
期刊：
Zeitschrift für anorganische und allgemeine Chemie
影响因子：
--
作者：
C. Hänisch;Stephan Traut;S. Ståhl
通讯作者：
S. Ståhl
NaAl(PH2)4、NaAl(HPCH3)4 的培养和 H3SiPH2 的制备方法以及 PH-haltigen 衍生物†
DOI：
10.1002/zaac.19713850306
发表时间：
1971
期刊：
Zeitschrift für anorganische und allgemeine Chemie
影响因子：
--
作者：
G. Fritz;H. Schäfer
通讯作者：
H. Schäfer
二聚（三（叔丁基）甲硅烷基）膦酰基（三（叔丁基）甲硅烷基）膦二基镓烷：具有Ga-P-Ga杂烯丙基体系的分子。
影响因子：
4.6
作者：
S. Weinrich;H. Piotrowski;Martin Vogt;A. Schulz;M. Westerhausen
通讯作者：
M. Westerhausen