Patterning microfluidic device wettability with spatially-controlled plasma oxidation.
Patterning microfluidic device wettability with spatially-controlled plasma oxidation.
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DOI：
10.1039/c5lc00626k
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发表时间：
2015-08-07
期刊：
影响因子：
6.1
通讯作者：
Abate AR
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Kim SC;Sukovich DJ;Abate AR
微流体装置可以形成具有均匀性质的双重乳液，但需要繁琐的制造步骤来图案化其润湿性。我们展示了空间控制的等离子体氧化，以创建润湿性图案形成双重乳液。我们的方法执行化学技术，但更简单，更可靠，可扩展到图案化的大阵列的液滴制造商。空间控制的等离子体处理能够实现微流体装置的容易、准确、可靠和可扩展的润湿性图案化。
Microfluidic devices can form double emulsions with uniform properties, but require cumbersome fabrication steps to pattern their wettability. We demonstrate spatially-controlled plasma oxidation to create wettability patterns for forming double emulsions. Our method performs comparably to chemical techniques but is simpler, more reliable, and scalable to patterning large arrays of drop makers. Spatially-controlled plasma treatment enables easy, accurate, reliable and scalable wettability patterning of microfluidic devices.
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影响因子：
3.9
作者：
Barbier, Valessa;Tatoulian, Michael;Tabeling, Patrick
通讯作者：
Tabeling, Patrick
影响因子：
6.1
作者：
Abate, Adam R.;Krummel, Amber T.;Weitz, David A.
通讯作者：
Weitz, David A.
影响因子：
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作者：
Abate, Adam R.;Rotem, Assaf;Weitz, David A.
通讯作者：
Weitz, David A.
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作者：
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通讯作者：
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作者：
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