USCD(米国)
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USCD（美国）
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
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作者：
在 Ar/H2/CH4 混合气体中使用脉冲微波放电在氮化硅陶瓷基底上沉积纳米晶金刚石薄膜
影响因子：
4.1
作者：
P. Bruno;F. Bénédic;A. Tallaire;F. Silva;F. Oliveira;M. Amaral;A. Fernandes;G. Cicala;Rui F. Silva
通讯作者：
Rui F. Silva
“激光分子束外延法室温生长 AIN/TiN 外延多层”固体薄膜
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
Thin Solid Films 516
影响因子：
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作者：
Miao Zhang;・広川 二郎・安藤 真;Wakana Hara;Wakana Hara
通讯作者：
Wakana Hara