Selection of Polymerizable Functional Group of Adhesive Monolayer to Control Monomer Viscosity under Confinement in Silica Nano-gaps
Selection of Polymerizable Functional Group of Adhesive Monolayer to Control Monomer Viscosity under Confinement in Silica Nano-gaps
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选择粘合剂单层的可聚合官能团来控制二氧化硅纳米间隙限制下的单体粘度
DOI：
10.1246/cl.190273
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发表时间：
2019
影响因子：
1.6
通讯作者：
Nakagawa Masaru
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Ito Shunya;Kasuya Motohiro;Kurihara Kazue;Nakagawa Masaru
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用于大批量半导体制造的纳米压印系统开发以及叠层性能的现状
DOI：
10.1117/12.2258385
发表时间：
2017
期刊：
Advanced Lithography
影响因子：
--
作者：
Yukio Takabayashi;Mitsuru Hiura;Hiroshi Morohoshi;Nobuhiro Kodachi;Tatsuya Hayashi;Atsushi Kimura;Takahiro Yoshida;K. Mishima;Y. Suzaki;Jin Choi
通讯作者：
Jin Choi
用于存储器件 HVM 的纳米压印光刻 (NIL) 研究
DOI：
10.1117/12.2257951
发表时间：
2017
期刊：
Advanced Lithography
影响因子：
--
作者：
T. Kono;M. Hatano;H. Tokue;K. Kobayashi;Masato Suzuki;K. Fukuhara;M. Asano;T. Nakasugi;E. Choi;W. Jung
通讯作者：
W. Jung
用于研究受限液体的傅里叶变换共振剪切测量
DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
Rev. Sci. Instrum 80
影响因子：
--
作者：
大藤弘明;黒木清;H. Sakuma and K. Kurihara
通讯作者：
H. Sakuma and K. Kurihara
模拟为简单振荡电路的共振剪切力流变仪
影响因子：
1.6
作者：
C. Dushkin;K. Kurihara
通讯作者：
K. Kurihara
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DOI：
10.1117/12.2260466
发表时间：
2017
期刊：
Advanced Lithography
影响因子：
--
作者：
Zhengmao Ye;Wei Zhang;N. Khusnatdinov;T. Stachowiak;J. W. Irving;Whitney Longsine;M. Traub;B. Fletcher;Weijun Liu
通讯作者：
Weijun Liu