Novel performances of in situ plasma nitriding-PVD duplex-treated nanocrystalline TiN coatings
Novel performances of in situ plasma nitriding-PVD duplex-treated nanocrystalline TiN coatings
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原位等离子氮化-PVD双相处理纳米晶TiN涂层的新性能
DOI：
10.1080/02670844.2017.1370881
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发表时间：
2018-07
影响因子：
2.8
通讯作者：
Menyou Ma
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Chaolin Tan;Kesong Zhou;Tongchun Kuang;Yuling Li;Menyou Ma
为提高氮化钛（TiN）涂层的承载能力、硬度和附着强度，采用了原位等离子体渗氮 - 物理气相沉积（PVD）复合处理工艺。利用高度电离的氩离子（Ar⁺）对基体进行轰击预处理，其起到 “离子磨料” 的作用。
To improve the load-bearing capacity, hardness and adhesion strength of the TiN coatings, the in situ plasma nitriding-PVD duplex treatment was applied. The substrate was pretreated by bombardment with highly ionised Ar+, functioned as an ‘ionic abrasive
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TiN、TiAlN、AlTiN 和 CrAlN PVD 氮化物涂层的摩擦磨损性能
DOI：
10.1016/j.ijrmhm.2011.09.010
发表时间：
2012-03-01
影响因子：
3.6
作者：
Liu Aihua;Deng Jianxin;Zhao Jun
通讯作者：
Zhao Jun
影响因子：
2.8
作者：
G. Lain;F. Cemin;C. M. Menezes;C. Aguzzoli;Israel J.R. Baumvol;S. S. Tomiello-S.;C. A. Figueroa
通讯作者：
G. Lain;F. Cemin;C. M. Menezes;C. Aguzzoli;Israel J.R. Baumvol;S. S. Tomiello-S.;C. A. Figueroa
影响因子：
2.8
作者：
Hyun‐Gyoo Shin;S. Jeon;Y. Choi;J. Song;Heesoo Lee
通讯作者：
Hyun‐Gyoo Shin;S. Jeon;Y. Choi;J. Song;Heesoo Lee
影响因子：
5
作者：
Wang, Xin;Kwon, Parick Y.;Kim, Dave (Dae-Wook)
通讯作者：
Kim, Dave (Dae-Wook)
影响因子：
2.8
作者：
Ji, J.;Niu, Y.;Yu, Z.
通讯作者：
Yu, Z.