Atomistic growth phenomena of reactively sputtered RuO2 and MnO2 thin films
Atomistic growth phenomena of reactively sputtered RuO2 and MnO2 thin films
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反应溅射 RuO2 和 MnO2 薄膜的原子生长现象
DOI：
10.1063/1.4926414
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发表时间：
2015
影响因子：
3.2
通讯作者：
J.M. Schneider
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
D. Music;P. Bliem;R.W. Geyer;J.M. Schneider
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DOI：
--
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期刊：
影响因子：
--
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