Switching field distribution of bit patterned MnGa films fabricated by ion irradiation
Switching field distribution of bit patterned MnGa films fabricated by ion irradiation
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离子辐照制备位图MnGa薄膜的开关场分布
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发表时间:
2013
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
S. Tsunashima
中科院分区:
文献类型:
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作者:
D. Oshima;T. Kato;S. Iwata;S. Tsunashima
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DOI:
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发表时间:
2005
期刊:
IEEE Trans. Magn. 41-10
影响因子:
--
作者:
Kamita;O.;Edi Suharyadi et al.
通讯作者:
Edi Suharyadi et al.
DOI:
10.1007/s00542-011-1222-1
发表时间:
2011
期刊:
Microsystem Technologies
影响因子:
--
作者:
Chulmin Choi;Y. Yoon;D. Hong;Y. Oh;F. Talke;S. Jin
通讯作者:
S. Jin
DOI:
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发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
--
作者:
B. Dai;T. Kato;S. Iwata;S.Tsunashima
通讯作者:
S.Tsunashima
DOI:
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发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
--
作者:
D. Oshima;T. Kato;S. Iwata;S. Tsunashima
通讯作者:
S. Tsunashima
影响因子:
2.1
作者:
E. Suharyadi;T. Kato;S. Tsunashima;S. Iwata
通讯作者:
S. Iwata