Insights Into the Structure-Function Relationships of Dimeric C3d Fragments.
Insights Into the Structure-Function Relationships of Dimeric C3d Fragments.
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DOI：
10.3389/fimmu.2021.714055
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发表时间：
2021
影响因子：
7.3
通讯作者：
van den Elsen JMH
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Wahid AA;Dunphy RW;Macpherson A;Gibson BG;Kulik L;Whale K;Back C;Hallam TM;Alkhawaja B;Martin RL;Meschede I;Laabei M;Lawson ADG;Holers VM;Watts AG;Crennell SJ;Harris CL;Marchbank KJ;van den Elsen JMH
C3裂解为C3 a和C3 b在补体介导的防御的产生中起着重要作用。虽然硫酯介导的表面沉积的C3 b已被充分研究，流体相二聚体的C3片段仍然在很大程度上未被探索。在这里，我们显示C3裂解的结果在自发形成的C3 b二聚体，并提出了第一个X-射线晶体结构的二硫键连接的人C3 d二聚体。结合研究表明，这些二聚体能够交联补体受体2，初步的基于细胞的分析表明，它们可以调节B细胞活化，从而影响致耐受性途径。总而言之，从我们的研究结果中获得的对C3 d（g）二聚体生理相关功能的见解将为增强我们对补体在流体相中的重要性的理解铺平道路，并可以为未来免疫系统疾病的新疗法的设计提供信息。
Cleavage of C3 to C3a and C3b plays a central role in the generation of complement-mediated defences. Although the thioester-mediated surface deposition of C3b has been well-studied, fluid phase dimers of C3 fragments remain largely unexplored. Here we show C3 cleavage results in the spontaneous formation of C3b dimers and present the first X-ray crystal structure of a disulphide-linked human C3d dimer. Binding studies reveal these dimers are capable of crosslinking complement receptor 2 and preliminary cell-based analyses suggest they could modulate B cell activation to influence tolerogenic pathways. Altogether, insights into the physiologically-relevant functions of C3d(g) dimers gained from our findings will pave the way to enhancing our understanding surrounding the importance of complement in the fluid phase and could inform the design of novel therapies for immune system disorders in the future.
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影响因子：
2.8
作者：
He YG;Pappworth IY;Rossbach A;Paulin J;Mavimba T;Hayes C;Kulik L;Holers VM;Knight AM;Marchbank KJ
通讯作者：
Marchbank KJ
影响因子：
5.6
作者：
Gilbert, HE;Eaton, JT;Perkins, SJ
通讯作者：
Perkins, SJ
影响因子：
56.9
作者：
Forneris, Federico;Ricklin, Daniel;Gros, Piet
通讯作者：
Gros, Piet
影响因子：
7.8
作者：
Aversa, G;Punnonen, J;de Vries, J E
通讯作者：
de Vries, J E
影响因子：
56.9
作者：
Dempsey, PW;Allison, MED;Fearon, DT
通讯作者：
Fearon, DT