Development of Surface Hall Potentiometry to Characterize Semiconductor Films
Development of Surface Hall Potentiometry to Characterize Semiconductor Films
复制标题
开发表征半导体薄膜的表面霍尔电位法
DOI:
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发表时间:
2006
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
Kenta Arima
中科院分区:
文献类型:
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作者:
Kenji Hiwa;Ryoji Nakaoka;Mizuho Morita;Kenta Arima
影响因子:
4
作者:
Hideo Fujii;T. Matsukawa;S. Kanemaru;H. Yokoyama;J. Itoh
通讯作者:
J. Itoh
DOI:
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发表时间:
2000
期刊:
影响因子:
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作者:
M. Woodside;C. Vale;P. McEuen;C. Kadow;K. Maranowski;A. Gossard
通讯作者:
A. Gossard
影响因子:
3.7
作者:
McCormick, KL;Woodside, MT;Harris, JS
通讯作者:
Harris, JS