Repair of Oxygen Vacancies and Improvement of HfO2/MoS2 Interface by NH3-Plasma Treatment
Repair of Oxygen Vacancies and Improvement of HfO2/MoS2 Interface by NH3-Plasma Treatment
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NH3-等离子体处理修复氧空位并改善 HfO2/MoS2 界面
DOI：
10.1109/ted.2019.2934186
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发表时间：
2019-10
影响因子：
3.1
通讯作者：
Wing-Man Tang
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Xinyuan Zhao;Jingping Xu;Lu Liu;Pui-To Lai;Wing-Man Tang
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