Nanoscale structures for implementation of anti-reflection and self-cleaning functions
Nanoscale structures for implementation of anti-reflection and self-cleaning functions
复制标题
用于实现抗反射和自清洁功能的纳米级结构
DOI：
10.1504/ijnm.2013.057596
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发表时间：
2013-11
影响因子：
--
通讯作者：
Huan Sun
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Guoqiang Liu;Ze Ji;Chunlei Tan;Huan Sun
设计良好的光学亚波长表面浮雕结构可以减少表面的反射损失，提高表面的疏水性，从而提高太阳能电池的效率，降低维护成本。干涉光刻技术提供了一种制作精细表面结构的方法，其周期远短于近红外或可见光的波长。通过多光束干涉光刻可以控制微结构的形态，允许设计具有抗反射（AR）和自清洁功能的亚波长结构表面。本文对亚波长抗反射浮雕结构和自清洁浮雕结构进行了分析，提出了利用干涉光刻技术实现多功能浮雕结构的方法。
Well-designed optical sub-wavelength surface relief structures could be used for minimising the reflection losses at the surface, and be used to increase the hydrophobic property of the surface, so that to improve the efficiencies and reduce the maintaining costs of solar cells. Interference lithography technology provides a way to fabricate a fine surface structure with the periods that are much shorter than the wavelengths of near infrared or visible light. The morphology of the microstructure by multi-beam interference lithography can be controlled, allowing the design of sub-wavelength structure surfaces with both anti-reflection (AR) and self-cleaning functions. In this paper, the analysis of the anti-reflection sub-wavelength relief structure and the self-cleaning relief structure is given, and the realisation method for a multi-functional structure using the interference lithography technology is presented.
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