Reduction of contact resistance at terminations of bismuth wire arrays

Reduction of contact resistance at terminations of bismuth wire arrays
复制标题

减少铋线阵列末端的接触电阻

DOI:
--
复制
发表时间:
2005
期刊:
Rev.Sci.Instrum. 76
影响因子:
--
通讯作者:
H.Nakamura
H.Nakamura
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
Y.Hasegawa;Y.Ishikawa;H.Shirai H.Morita;A.Kurokouchi;K.Wada;T.Komine;H.Nakamura

文献摘要

参考文献

被引文献

相似文献

DOI: 10.1103/physrevb.67.245317
发表时间: 2003-06
期刊: Physical Review B
影响因子: 3.7
作者:
T. Huber;K. Celestine;M. Graf
通讯作者: T. Huber;K. Celestine;M. Graf
DOI: 10.1103/physrevb.15.608
发表时间: 1977-01-01
期刊: PHYSICAL REVIEW B
影响因子: 3.7
作者:
GLOCKER, DA;SKOVE, MJ
通讯作者: SKOVE, MJ
DOI: 10.1103/physrevb.63.073106
发表时间: 2001
期刊: Physical Review B
影响因子: 3.7
作者:
F. Brochin;B. Lenoir;C. Bellouard;H. Scherrer;I. Vurgaftman;J. Meyer
通讯作者: J. Meyer
DOI: 10.1557/jmr.2000.0262
发表时间: 2000
影响因子: 2.7
作者:
T. Huber;M. Graf;C. Foss;P. Constant
通讯作者: P. Constant