New Selective Anodization Process for Nb Josephson Junction with AlOx Barrier
New Selective Anodization Process for Nb Josephson Junction with AlOx Barrier
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具有 AlOx 阻挡层的 Nb 约瑟夫森结的新型选择性阳极氧化工艺
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Shin'ichi Morohashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shin'ichi Morohashi;Shin'ichi Morohashi;Shin'ichi Morohashi;Shin'ichi Morohashi;Shin'ichi Morohashi;Shin'ichi Morohashi;Shin'ichi Morohashi;Shin'ichi Morohashi
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使用射频磁控管面向靶溅射和传统射频磁控溅射制备的 SiO2 绝缘层
影响因子：
1.5
作者：
S. Morohashi;Atsunori Matsuo;Toshihiro Hara;S. Tsujimura;M. Kawanishi
通讯作者：
M. Kawanishi
高品质 Nb/Al-AlOx/Nb 约瑟夫森结
影响因子：
4
作者：
S. Morohashi;F. Shinoki;A. Shoji;M. Aoyagi;H. Hayakawa
通讯作者：
H. Hayakawa
采用面向靶溅射的 Nb/Al-AlOx-Al/Nb 约瑟夫森结的特性
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
Journal of Physics (掲載決定)
影响因子：
--
作者：
Shin'ichi Morohashi;Shin'ichi Morohashi;Shin'ichi Morohashi;Shin'ichi Morohashi;Shin'ichi Morohashi
通讯作者：
Shin'ichi Morohashi
亚微米 Nb/Al2O(x)/Nb 约瑟夫森结
影响因子：
3.2
作者：
T. Imamura;S. Hasuo
通讯作者：
S. Hasuo
Nb/Al-AlOx/Nb 约瑟夫森结的自对准接触工艺
影响因子：
4
作者：
S. Morohashi;S. Hasuo;T. Yamaoka
通讯作者：
T. Yamaoka