Drastic enhancement of photoresponsivity in C-doped BaSi2 films formed by radio-frequency sputtering
Drastic enhancement of photoresponsivity in C-doped BaSi2 films formed by radio-frequency sputtering
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射频溅射形成的掺碳 BaSi2 薄膜的光响应性显着增强
DOI：
10.35848/1347-4065/ab69dc
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发表时间：
2020
影响因子：
1.5
通讯作者：
Suemasu T.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Nemoto T.;Matsuno S.;Sato T.;Gotoh K.;Mesuda M.;Kuramochi H.;Toko K.;Usami N.;Suemasu T.
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期刊：
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