Impact of deposition pressure and two-step growth technique on the photoresponsivity enhancement of polycrystalline BaSi2 films formed by sputtering
Impact of deposition pressure and two-step growth technique on the photoresponsivity enhancement of polycrystalline BaSi2 films formed by sputtering
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沉积压力和两步生长技术对溅射多晶BaSi2薄膜光响应增强的影响
DOI：
10.7567/1882-0786/aafc70
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发表时间：
2019
影响因子：
2.3
通讯作者：
Suemasu Takashi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Matsuno Satoshi;Nemoto Taira;Mesuda Masami;Kuramochi Hideto;Toko Kaoru;Suemasu Takashi
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