Micro-machining of resists on silicon by proton beam writing
Micro-machining of resists on silicon by proton beam writing
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通过质子束写入对硅上的抗蚀剂进行微加工
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y.Ishii and T.Kamiya
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N.Uchiya;T.Harada;M.Murai;H.Nishikawa;J.Haga;T.Sato;Y.Ishii and T.Kamiya
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DOI：
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发表时间：
2000
期刊：
影响因子：
--
作者：
T. Osipowicz;J. A. Kan;T. Sum;J. L. Sanchez;F. Watt
通讯作者：
F. Watt
用于纳米压印的聚合物印模
影响因子：
2.3
作者：
K. Pfeiffer;M. Fink;G. Ahrens;G. Gruetzner;F. Reuther;J. Seekamp;S. Zankovych;C. Torres;I. Maximov;M. Beck;Mariusz Graczyk;L. Montelius;H. Schulz;H. Scheer;F. Steingrueber
通讯作者：
F. Steingrueber
DOI：
10.1016/j.nimb.2005.01.043
发表时间：
2005-04
影响因子：
1.3
作者：
T. Sakai;M. Oikawa;T. Sato;T. Nagamine;H. Moon;K. Nakazato;Keij Suzuki
通讯作者：
T. Sakai;M. Oikawa;T. Sato;T. Nagamine;H. Moon;K. Nakazato;Keij Suzuki
用于质子微加工的抗蚀剂材料
DOI：
10.1016/s0168-583x(99)00392-4
发表时间：
1999
影响因子：
1.3
作者：
J. A. Kan;J. L. Sanchez;B. Xu;T. Osipowicz;F. Watt
通讯作者：
F. Watt
使用具有极高电压稳定性的单端加速器的亚微米微束装置
DOI：
10.1016/0168-583x(95)00399-1
发表时间：
1995
影响因子：
1.3
作者：
T. Kamiya;T. Suda;R. Tanaka
通讯作者：
R. Tanaka