Effects of Ba-to-Si deposition rate ratios on the electrical and photoresponse properties of arsenic-doped n-type BaSi2 films
Effects of Ba-to-Si deposition rate ratios on the electrical and photoresponse properties of arsenic-doped n-type BaSi2 films
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Ba/Si 沉积速率比对砷掺杂 n 型 BaSi2 薄膜电学和光响应性能的影响
DOI：
10.1016/j.tsf.2021.138969
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
Suemasu Takashi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Aonuki Sho;Yamashita Yudai;Toko Kaoru;Suemasu Takashi
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--
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