Interfacial properties of bilayer and trilayer graphene on metal substrates.
Interfacial properties of bilayer and trilayer graphene on metal substrates.
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金属基底上双层和三层石墨烯的界面特性
DOI：
10.1038/srep02081
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发表时间：
2013
影响因子：
4.6
通讯作者：
Lu, Jing
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Zheng, Jiaxin;Wang, Yangyang;Wang, Lu;Quhe, Ruge;Ni, Zeyuan;Mei, Wai-Ning;Gao, Zhengxiang;Yu, Dapeng;Shi, Junjie;Lu, Jing
制备石墨烯的一种流行方法是通过化学气相沉积在过渡金属基底上生长它们。采用色散修正的密度泛函理论，首次系统地研究了金属基底上双层和三层石墨烯的界面性质.揭示了三种类型的界面结构。B（T）LG在Al、Ag、Cu、Au和Pt基底上的吸附是弱的物理吸附，但能打开带隙。B（T）LG在Ti、Ni和Co衬底上的吸附是强化学吸附，TLG的两个非接触层打开了一个对堆叠不敏感的带隙。B（T）LG在Pd基底上的吸附是一种较弱的化学吸附，未接触层有一个带隙开放。由于石墨烯/金属不可避免的接触，这一基础研究也有助于B（T）LG器件的研究。
One popular approach to prepare graphene is to grow them on transition metal substrates via chemical vapor deposition. By using the density functional theory with dispersion correction, we systematically investigate for the first time the interfacial properties of bilayer (BLG) and trilayer graphene (TLG) on metal substrates. Three categories of interfacial structures are revealed. The adsorption of B(T)LG on Al, Ag, Cu, Au and Pt substrates is a weak physisorption, but a band gap can be opened. The adsorption of B(T)LG on Ti, Ni and Co substrates is a strong chemisorption and a stacking-insensitive band gap is opened for the two uncontacted layers of TLG. The adsorption of B(T)LG on Pd substrate is a weaker chemisorption, with a band gap opened for the uncontacted layers. This fundamental study also helps for B(T)LG device study due to inevitable graphene/metal contact.
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