Efficient Plasma Source Providing Pronounced Density Peaks in the Range of Very Low Magnetic Fields
Efficient Plasma Source Providing Pronounced Density Peaks in the Range of Very Low Magnetic Fields
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高效等离子源在极低磁场范围内提供明显的密度峰值
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
G.Sato
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Nishihara;A.Sasaki;T.Nishikawa;A.Sunahara;R.Hatakeyama;R.Hatakeyama;R.Hatakeyama;W.Oohara;G.Sato;W.Oohara;G.Sato
低磁场下感应耦合等离子体中的方位对称赝面和螺旋波传播
影响因子：
2.2
作者：
T. Lho;N. Hershkowitz;John R. Miller;W. Steer;Gon
通讯作者：
Gon
螺旋扩散反应器中低压和低温沉积的二氧化硅薄膜的表征
DOI：
10.1116/1.578675
发表时间：
1993
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
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作者：
C. Charles;G. Giroult‐Matlakowski;R. Boswell;A. Goullet;G. Turban;C. Cardinaud
通讯作者：
C. Cardinaud