High-quality InN grown on KOH wet etched N-polar InN template by RF-MBE
High-quality InN grown on KOH wet etched N-polar InN template by RF-MBE
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通过 RF-MBE 在 KOH 湿法蚀刻 N 极性 InN 模板上生长高质量 InN
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
D.Muto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
D. Muto;H. Naoi;S. Takado;T. Araki;and Y. Nanishi;Daisuke Muto;D.Muto
通过插入高温InN缓冲层生长高质量InN薄膜
影响因子：
1.8
作者：
T. Yamaguchi;M. Kurouchi;H. Naoi;A. Suzuki;T. Araki;Y. Nanishi
通讯作者：
Y. Nanishi
衬底极性对 RF-MBE 生长 InN 薄膜的影响
DOI：
10.1002/pssc.200303532
发表时间：
2003
期刊：
Physica Status Solidi (c)
影响因子：
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作者：
Fumie Matsuda;Y. Saito;T. Muramatsu;T. Yamaguchi;Yuriko Matsuo;A. Koukitu;T. Araki;Y. Nanishi
通讯作者：
Y. Nanishi