PCVM(Plasma Chemical Vaporization Machining)を用いたSiCウエハのベベル加工
PCVM(Plasma Chemical Vaporization Machining)を用いたSiCウエハのベベル加工
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使用 PCVM（等离子体化学汽化加工）对 SiC 晶圆进行斜角加工
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山内和人
中科院分区：
文献类型：
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作者：
加藤武寛;佐野泰久;原 英之;三村秀和;山村和也; 山内和人
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影响因子：
6.1
作者：
Korytár D;Vagovič P;Végsö K;Siffalovič P;Dobročka E;Jark W;Ač V;Zápražný Z;Ferrari C;Cecilia A;Hamann E;Mikulík P;Baumbach T;Fiederle M;Jergel M
通讯作者：
Jergel M
两全其美：通道切割单色仪的自动 CMP 抛光
DOI：
10.1117/12.2196034
发表时间：
2015
期刊：
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影响因子：
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作者：
E. Kasman;Mark Erdmann;S. Stoupin
通讯作者：
S. Stoupin
X 射线 BBB 迈克尔逊干涉仪。
影响因子：
2.5
作者：
J. Sutter;T. Ishikawa;U. Kuetgens;G. Materlik;Y. Nishino;A. Rostomyan;K. Tamasaku;M. Yabashi
通讯作者：
M. Yabashi
X射线单色仪，能量分辨率为8×10−9（14.41 keV）
DOI：
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发表时间：
2001
期刊：
影响因子：
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作者：
M. Yabashi;K. Tamasaku;S. Kikuta;T. Ishikawa
通讯作者：
T. Ishikawa
衍射-折射光学器件：( ,-,-, ) 带谐波分离功能的 X 射线晶体单色仪。
影响因子：
2.5
作者：
J. Hrdý;P. Mikulík;P. Oberta
通讯作者：
P. Oberta