Growth mode and interface structure of Ag on the HF-treated Si(111):H surface
Growth mode and interface structure of Ag on the HF-treated Si(111):H surface
复制标题
HF处理的Si(111):H表面Ag的生长模式和界面结构
DOI：
10.1016/0039-6028(95)01073-4
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发表时间：
1996
期刊：
影响因子：
1.9
通讯作者：
J. Vrijmoeth
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
A. Nishiyama;G. T. Horst;P. Zagwijn;G. N. Hoven;J. Frenken;F. Garten;A. Schlatmann;J. Vrijmoeth
影响因子：
4
作者：
HIGASHI, GS;CHABAL, YJ;RAGHAVACHARI, K
通讯作者：
RAGHAVACHARI, K
DOI：
10.1116/1.575980
发表时间：
1989-05-01
期刊：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS
影响因子：
--
作者：
CHABAL, YJ;HIGASHI, GS;BURROWS, VA
通讯作者：
BURROWS, VA