Epitaxial Growth of Atomically Flat Single-crystalline (ZnO) (InN) Films on O-polar ZnO Substrates by Magnetron Sputtering
Epitaxial Growth of Atomically Flat Single-crystalline (ZnO) (InN) Films on O-polar ZnO Substrates by Magnetron Sputtering
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利用磁控溅射在 O 极 ZnO 衬底上外延生长原子级平坦单晶 (ZnO) (InN) 薄膜
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
N.Itagaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Narishige;N. Yamashita;K. Kamataki;T. Okumura;K. Koga;M. Shiratani;N.Itagaki
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衬底表面极性对(ZnO)x (InN)1-x薄膜溅射外延的影响
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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作者：
成重椋太;山下大輔;鎌滝晋礼;奥村賢直;古閑一憲;白谷正治;板垣奈穂
通讯作者：
板垣奈穂
DOI：
10.1002/pssb.200304189
发表时间：
2004-03
期刊：
physica status solidi (b)
影响因子：
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作者：
H. Kato;M. Sano;K. Miyamoto;T. Yao
通讯作者：
H. Kato;M. Sano;K. Miyamoto;T. Yao
在整个可见光谱范围内带隙可调的 ZnO 基半导体的溅射生长
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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作者：
井手智章;松島宏一;清水僚太;山下大輔;徐鉉雄;古閑一憲;白谷正治;板垣奈穂;板垣奈穂;Naho Itagaki;N. Itagaki
通讯作者：
N. Itagaki
分子束外延生长的氮氧化铟锌薄膜的带隙控制及性能
DOI：
10.1021/acs.jpcc.1c08630.s001
发表时间：
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期刊：
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影响因子：
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作者：
P. Boot
通讯作者：
P. Boot
同质外延ZnO薄膜生长中衬底表面的极性效应
影响因子：
1.8
作者：
Shen Zhu;C. Su;S. Lehoczky;M. Harris;M. Callahan;P. McCarty;M. George
通讯作者：
M. George