The Influence of MS Imaging Parameters on UV-MALDI Desorption and Ion Yield
The Influence of MS Imaging Parameters on UV-MALDI Desorption and Ion Yield
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MS 成像参数对 UV-MALDI 解吸和离子产率的影响
DOI：
--
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发表时间：
2019
影响因子：
3.2
通讯作者：
J. Bunch
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Kenneth N. Robinson;R. Steven;A. Race;J. Bunch
紫外基质辅助激光解吸/电离质谱成像（UV-MALDI MSI）是一种广泛应用于生物系统分子分布成像的技术。虽然有很多关于UV-MALDI MS解吸的工作，但通常不同的成像应用参数（重复率，使用连续光栅模式和光栅速度）的影响，决定了该技术的空间分辨率和检测极限，在很大程度上仍然未知。我们使用多种表面表征模式，在不同UV-MALDI MSI取样条件下，获得两种基质化合物薄膜模型系统中材料解吸和分析物离子产率的定量测量。观察到的烧蚀特征的变化指向基体相关的空间分辨率和激光诱导的基体修饰效应。分析离子产率为10−9 ~ 10−6。观察到光斑和光栅采样之间离子产率的复杂变化，以及激光重复率和光栅速度的变化。
AbstractUltraviolet matrix-assisted laser desorption/ionization mass spectrometry imaging (UV-MALDI MSI) is a widely used technique for imaging molecular distributions within biological systems. While much work exists concerning desorption in UV-MALDI MS, the effects of commonly varied parameters for imaging applications (repetition rate, use of continuous raster mode and raster speed), which determine spatial resolution and limits of detection for the technique, remain largely unknown. We use multiple surface characterization modalities to obtain quantitative measurements of material desorption and analyte ion yield in thin film model systems of two matrix compounds, arising from different UV-MALDI MSI sampling conditions. Observed changes in resulting ablation feature point to matrix-dependent spatial resolution and laser-induced matrix modification effects. Analyte ion yields of 10−9 to 10−6 are observed. Complex changes in ion yield, between spot and raster sampling and arising from varied laser repetition rate and raster speed, are observed.
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