Phase evolution of ultra-thin Ni silicide films on CF4 plasma immersion ion implanted Si
Phase evolution of ultra-thin Ni silicide films on CF4 plasma immersion ion implanted Si
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CF4等离子体浸没离子注入Si上超薄硅化镍薄膜的相演化
DOI：
10.1088/1361-6528/ab6d21
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发表时间：
2020-01
期刊：
影响因子：
3.5
通讯作者：
Qing-Tai Zhao
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Lan-Tian Zhao;Mingshan Liu;Qing-Hua Ren;Chen-He Liu;Qiang Liu;Ling-Li Chen;Yohann Spiegel;Frank Torregrosa;Wenjie Yu;Qing-Tai Zhao
We present a systematic study on the effects of CF4 plasma immersion ion implantation (PIII) in Si on the phase evolution of ultra-thin Ni silicides. For 3 nm Ni, NiSi2 was formed on Si substrates with and without CF4 PIII at temperature as low as 400 °C.
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影响因子：
3.2
作者：
DHEURLE, F;PETERSSON, CS;WONG, CY
通讯作者：
WONG, CY
影响因子：
3.5
作者：
S. Habicht;Qing-Tai Zhao;S. Feste;Lars Knoll;Stefan Trellenkamp;B. Ghyselen;S. Mantl
通讯作者：
S. Habicht;Qing-Tai Zhao;S. Feste;Lars Knoll;Stefan Trellenkamp;B. Ghyselen;S. Mantl
影响因子：
1.5
作者：
M. Tsuchiaki;A. Nishiyama
通讯作者：
M. Tsuchiaki;A. Nishiyama
影响因子：
4
作者：
K. D. Keyser;C. V. Bockstael;R. Meirhaeghe;C. Detavernier;E. Verleysen;H. Bender;W. Vandervorst;J. Jordan-Sweet;C. Lavoie
通讯作者：
K. D. Keyser;C. V. Bockstael;R. Meirhaeghe;C. Detavernier;E. Verleysen;H. Bender;W. Vandervorst;J. Jordan-Sweet;C. Lavoie
影响因子：
8.6
作者：
R. T. Tung;J. Gibson;J. Poate
通讯作者：
R. T. Tung;J. Gibson;J. Poate