Low Deposition Temperature-Induced Changes of the Microstructure and Tribological Property of WS2 Film
Low Deposition Temperature-Induced Changes of the Microstructure and Tribological Property of WS2 Film
复制标题
低沉积温度引起的WS2薄膜微观结构和摩擦学性能的变化
DOI：
10.3390/coatings9040227
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发表时间：
2019-03
期刊：
影响因子：
3.4
通讯作者：
Gao Xiaoming
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Hu Ming;Dong Yi;Wang Yan;Wang Desheng;Jiang Dong;Fu Yanlong;Weng Lijun;Sun Jiayi;Gao Xiaoming
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Pure WS2 films were prepared by the radio frequency sputtering of a WS2 target with the initial substrate temperature controlled to −40, −25, 0 °C and room temperature by cooling the holder with liquid nitrogen, respectively. The influence of the substrat
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