Tatsuru Shirafuji: "PE-CVD of Fluorocarbon/Silicon Oxide Composite Thin Films from TFE and HMDSO" Mater.Res.Soc.Symp.Proc.(1999)
Tatsuru Shirafuji: "PE-CVD of Fluorocarbon/Silicon Oxide Composite Thin Films from TFE and HMDSO" Mater.Res.Soc.Symp.Proc.(1999)
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Tatsuru Shirafuji：“利用 TFE 和 HMDSO 制备氟碳/二氧化硅复合薄膜的 PE-CVD”Mater.Res.Soc.Symp.Proc.(1999)
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
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作者：
四氟乙烯和四异氰酸酯硅烷氟化非晶碳薄膜的等离子体增强化学气相沉积
DOI：
10.1023/b:papo.0000005942.82289.25
发表时间：
1998
期刊：
Plasmas and Polymers
影响因子：
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作者：
T. Shirafuji;Y. Nakagami;Y. Hayashi;S. Nishino
通讯作者：
S. Nishino
热稳定、低介电常数氟碳/SiO2复合薄膜的沉积
影响因子：
4
作者：
D. S. Kim;Y. H. Lee;N. Park
通讯作者：
N. Park