Shock-wave-induced Thin-film Delamination (SWIFD): A Non-thermal Structuring Method of Functional Layers☆
Shock-wave-induced Thin-film Delamination (SWIFD): A Non-thermal Structuring Method of Functional Layers☆
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冲击波诱导薄膜分层 (SWIFD)：功能层的非热结构化方法â
DOI：
10.1016/j.phpro.2016.08.018
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Zimmer
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Lorenz;Pierre;Ehrhardt;Martin;Zimmer
热敏功能层的激光结构化是激光方法的一个挑战。然而，超短激光脉冲已经可以引起热改性。激光脉冲吸收与功能层去除工艺的空间分离允许非热结构化工艺。因此，衬底的后侧被照射，并且随后的激光烧蚀过程引起穿过衬底的横向冲击波。最后，冲击波与基底/功能层界面的相互作用导致功能层的分层。在厚度为25 μm的聚酰亚胺柔性衬底上，对1.5 μm厚的环氧树脂基负性光刻胶SU 8，250 nm-1 μm铬层的冲击波诱导薄膜分层（SWIFD）方法进行了实验，研究了金属中间层厚度的系统变化对分层过程的影响。通过光学显微镜以及通过白色光干涉法（WLI）分析所得的表面形态。
The laser structuring of thermally sensitive functional layers is a challenge for laser methods. However, already ultrashort laser pulses can induce thermal modifications. The spatial separation of the laser pulse absorption from the functional layer removal process allows a non-thermal structuring process. Therefore, the rear side of the substrate is irradiated and the following laser ablation process induces a transverse shock wave through the substrate. Finally, the interaction of the shock wave with the substrate/functional layer interface results in a delamination of the functional layer. This shock-wave-induced thin-film delamination (SWIFD) method was tested on a layer system (1.5 μm thick epoxy-based negative photoresist SU 8, 250 nm–1 μm chromium layer) on a 25 μm polyimide flexible substrate where the influence of the systematic variation of the thickness of the metallic intermediate layer on the delamination process was studied. The resultant surface morphology was analyzed by optical microscopy as well as by white light interferometry (WLI).
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使用激光诱导冲击波分层工艺选择性结构化多层功能薄膜
DOI：
10.1117/12.2212495
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
M. Ehrhardt;P. Lorenz;L. Bayer;C. Molpeceres;C. A. H. Ramirez;K. Zimmer
通讯作者：
K. Zimmer
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影响因子：
6.7
作者：
Sanjeev Naithani;D. Schaubroeck;Y. Vercammen;R. Mandamparambil;I. Yakimets;L. Vaeck;G. V. Steenberge
通讯作者：
G. V. Steenberge
影响因子：
1.1
作者：
Karnakis, Dimitris;Kearsley, Andrew;Knowles, Martyn
通讯作者：
Knowles, Martyn
影响因子：
5
作者：
A. Wehrmann;S. Puttnins;Lars Hartmann;M. Ehrhardt;P. Lorenz;K. Zimmer
通讯作者：
A. Wehrmann;S. Puttnins;Lars Hartmann;M. Ehrhardt;P. Lorenz;K. Zimmer
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DOI：
10.1007/s00339-013-7962-2
发表时间：
2013
期刊：
Applied Physics A
影响因子：
--
作者：
M. Ehrhardt;A. Wehrmann;P. Lorenz;K. Zimmer
通讯作者：
K. Zimmer