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Specialized Research Equipment: Reactive Sputter-Etching System For Solid-State Device Research
专业研究设备：用于固态器件研究的反应溅射蚀刻系统
基本信息
- 批准号：7923793
- 负责人：
- 金额：$ 1.78万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Standard Grant
- 财政年份：1980
- 资助国家：美国
- 起止时间：1980-02-15 至 1981-07-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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{{ truncateString('Daniel Prober', 18)}}的其他基金
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相似国自然基金
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- 批准号：
9601670 - 财政年份：1996
- 资助金额：
$ 1.78万 - 项目类别：
Standard Grant
CISE Research Instrumentation: Specialized Equipment for Vision and Image Processing
CISE 研究仪器：视觉和图像处理专用设备
- 批准号：
9422288 - 财政年份：1995
- 资助金额：
$ 1.78万 - 项目类别：
Standard Grant
Specialized Engineering Research Equipment Grant for Selective Gas Purification Studies
用于选择性气体净化研究的专业工程研究设备补助金
- 批准号：
8405640 - 财政年份：1984
- 资助金额：
$ 1.78万 - 项目类别：
Standard Grant
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专业研究设备；
- 批准号：
8408530 - 财政年份：1984
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Standard Grant
Specialized Research Equipment: VLSI (Very Large Scale Integrated) Design and Implementation of Advanced Signal Processing Methods
专业研究设备：先进信号处理方法的VLSI（超大规模集成）设计和实现
- 批准号：
8405783 - 财政年份：1984
- 资助金额：
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Standard Grant
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专业研究设备：电信计算实验室
- 批准号：
8406496 - 财政年份：1984
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Standard Grant
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专业研究设备：热电子集成电路研究仪器和溅射系统
- 批准号：
8406980 - 财政年份：1984
- 资助金额：
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- 批准号：
8405435 - 财政年份：1984
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$ 1.78万 - 项目类别：
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