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Reactive Ion Processes in Semiconductor Technology: Ion-Simulated Surface Chemistry (Materials Research)

半导体技术中的反应离子过程：离子模拟表面化学（材料研究）

基本信息

批准号：
8117089
负责人：
Thor Rhodin
金额：
$ 23.37万
依托单位：
Cornell University
依托单位国家：
美国
项目类别：
Continuing Grant
财政年份：
1982
资助国家：
美国
起止时间：
1982-08-15 至 1986-01-31
项目状态：
已结题

来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=8117089&HistoricalAwards=false
关键词：
Reactive Ion Processes Semiconductor Technology

项目摘要

项目成果

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