研究启动：分析电场对硅化学气相沉积的影响-猫眼课题宝

研究启动：分析电场对硅化学气相沉积的影响

批准号：

8203554

负责人：

Richard Pollard

金额：

$4.79万

依托单位：

University of Houston

依托单位国家：

美国

项目类别：

Standard Grant

财政年份：

1982

资助国家：

美国

项目状态：

已结题

起止时间：

1982-05-01 至 1985-04-30

来源：

https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=8203554&HistoricalAwards=false

关键词：

Research Initiation Analysis Influence Electric

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First Engineering Foundation Conference on Processing of Electronic Materials; February 23-28, 1986; Santa Barbara, CA

批准号：

8513719
项目类别：

Standard Grant
资助金额：

$1.2万
财政年份：

1986
负责人：

Richard Pollard
依托单位：

United Engineering Trustees, Inc.

Presidential Young Investigator Award: Transport Phenomena Related to Processing of Electronics Materials

批准号：

8451112
项目类别：

Continuing Grant
资助金额：

$31.2万
财政年份：

1985
负责人：

Richard Pollard
依托单位：

University of Houston

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