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An Excimer Laser Heated Plasma Soft X-Ray Source for Microlithography
用于微光刻的准分子激光加热等离子体软 X 射线源
基本信息
- 批准号：8212856
- 负责人：
- 金额：$ 19.96万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Continuing Grant
- 财政年份：1983
- 资助国家：美国
- 起止时间：1983-09-01 至 1985-08-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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专著数量（0）
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会议论文数量（0）
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