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An Excimer Laser Heated Plasma Soft X-Ray Source for Microlithography

An Excimer Laser Heated Plasma Soft X-Ray Source for Microlithography
用于微光刻的准分子激光加热等离子体软 X 射线源
批准号:
8212856
负责人:
George Albrecht
金额:
$19.96万
依托单位:
依托单位国家:
美国
项目类别:
Continuing Grant
财政年份:
1983
资助国家:
美国
项目状态:
已结题
起止时间:
1983-09-01 至 1985-08-31

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