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Research Initiation: Plasma Deposition of Metal Silicides
研究启动：金属硅化物的等离子体沉积
基本信息
- 批准号：8307025
- 负责人：
- 金额：$ 5.32万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Standard Grant
- 财政年份：1983
- 资助国家：美国
- 起止时间：1983-06-01 至 1985-11-30
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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