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The Effect of Electrically Active Processing Additives on Self-Diffusion in Silicon Carbide (Materials Research)

The Effect of Electrically Active Processing Additives on Self-Diffusion in Silicon Carbide (Materials Research)
电活性加工添加剂对碳化硅自扩散的影响（材料研究）
批准号：
8512405
负责人：
Robert Davis
金额：
$27.5万
依托单位：
North Carolina State University
依托单位国家：
美国
项目类别：
Continuing Grant
财政年份：
1985
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1985-08-15 至 1989-03-31
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=8512405&HistoricalAwards=false
关键词：
EffectElectricallyActiveProcessingAdditives

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REU Site: University of Colorado, Engineering Smart Biomaterials
  • 批准号：
    2348856
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $42.72万
  • 财政年份：
    2024
  • 负责人：
    Robert Davis
  • 依托单位：
    University of Colorado at Boulder
Wet Particle Collisions
  • 批准号：
    2301910
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $37.3万
  • 财政年份：
    2023
  • 负责人：
    Robert Davis
  • 依托单位：
    University of Colorado at Boulder
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AMPS: Collaborative Research: A convex geometry and homotopy approach for power-flow equations
  • 批准号：
    1922998
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $6.97万
  • 财政年份：
    2019
  • 负责人：
    Robert Davis
  • 依托单位：
    Colgate University
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