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Engineering Research Equipment: Chemical Vapor Deposition System

Engineering Research Equipment: Chemical Vapor Deposition System
工程研究设备制造 : 化学气相沉积系统
批准号:
8906373
负责人:
Dorothy Skaf
金额:
$5.8万
依托单位:
依托单位国家:
美国
项目类别:
Standard Grant
财政年份:
1989
资助国家:
美国
项目状态:
已结题
起止时间:
1989-06-01 至 1990-11-30

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
该合同将允许获得一套化学气相沉积系统,用于低温沉积难熔金属碳化物和氮化物薄膜的薄涂层。这些薄膜的摩擦磨损行为以及它们的抗颗粒侵蚀性能将作为沉积参数和薄膜成分的函数进行研究。
英文摘要
This award will allow acquisition of a chemical vapor deposition system for use in low temperature deposition of thin coatings of refractory metal carbide and nitride films. The friction and wear behavior of these films, as well as their resistance to particle erosion, will be studied as functions of deposition parameters and film composition.
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会议论文
RUI: Nanoscale Catalysts: Syntheses, Characterization and Reactivities
  • 批准号:
    0416040
  • 项目类别:
    Standard Grant
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    2004
  • 负责人:
    Dorothy Skaf
  • 依托单位:
Research Initiation Award: Chemical Vapor Deposition for Tribological Applications
  • 批准号:
    9008414
  • 项目类别:
    Standard Grant
  • 资助金额:
    $5.92万
  • 财政年份:
    1990
  • 负责人:
    Dorothy Skaf
  • 依托单位:
国内基金
海外基金
Research on Quantum Field Theory without a Lagrangian Description
  • 批准号:
    24ZR1403900
  • 项目类别:
    省市级项目
  • 资助金额:
    --
  • 批准年份:
    2024
  • 负责人:
    SATOSHI NAWATA
  • 依托单位:
Cell Research
Cell Research
Cell Research (细胞研究)