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Engineering Research Equipment: Chemical Vapor Deposition System
工程研究设备制造 : 化学气相沉积系统
基本信息
- 批准号：8906373
- 负责人：
- 金额：$ 5.8万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Standard Grant
- 财政年份：1989
- 资助国家：美国
- 起止时间：1989-06-01 至 1990-11-30
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
This award will allow acquisition of a chemical vapor deposition system for use in low temperature deposition of thin coatings of refractory metal carbide and nitride films. The friction and wear behavior of these films, as well as their resistance to particle erosion, will be studied as functions of deposition parameters and film composition.
该合同将允许获得一种化学气相沉积系统，用于低温沉积难熔金属碳化物和氮化物薄膜的薄涂层。这些薄膜的摩擦磨损性能，以及它们对颗粒侵蚀的抵抗力，将作为沉积参数和薄膜成分的函数来研究。
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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