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Low Temperature Processing of Thin Film Superconductor for Microelectronic Applications
微电子应用薄膜超导体的低温加工
基本信息
- 批准号：9321232
- 负责人：
- 金额：$ 5万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Standard Grant
- 财政年份：1994
- 资助国家：美国
- 起止时间：1994-01-01 至 1996-06-30
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
9321232 Wang The technique of ion implantation has been utilized in the semiconductor industry. Thin film ceramic superconductors are expected to be integrated with semiconductors for future microelectronics applications. The prospect of having ion implantation for superconductor thin film processing would be extremely desirable, since it is compatible with present microelectronics technology. To date the overall effort on the utilization of ion implantation for superconductivity processing is quite limited. ***
9321232王离子注入技术已经在半导体工业中得到了应用。薄膜陶瓷超导体有望与半导体集成，用于未来的微电子应用。离子注入用于超导薄膜加工的前景是非常可取的，因为它与目前的微电子技术兼容。到目前为止，利用离子注入进行超导处理的总体努力还相当有限。***
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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