Fabrication and evaluation of infrared element by low-temperature imprint processing with sol-gel method
Fabrication and evaluation of infrared element by low-temperature imprint processing with sol-gel method
溶胶-凝胶法低温压印红外元件的制备与评价
批准号：
15K04698
负责人：
Yamada Itsunari
金额：
$3.24万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2015
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2015-04-01 至 2018-03-31
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Retardation of sol-gel titanium oxide with imprinted grating structure
溶胶-凝胶二氧化钛印迹光栅结构的延迟
溶胶-凝胶二氧化钛印迹光栅结构的延迟
DOI：
10.1117/1.oe.56.1.017108
发表时间：
2017
期刊：
Optical Engineering
影响因子：
1.3
作者：
[I. Yamada, Y. Ishihara, and T. Akiyama]
通讯作者：
and T. Akiyama
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Y. Ikeda, T. Higuchi and *I. Yamada, I. Yamada and Y. Ishihara]
通讯作者：
I. Yamada and Y. Ishihara
Infrared Polarizer Fabrication by Imprinting on Sb–Ge–Sn–S Chalcogenide Glass
通过压印 Sb-Ge-Sn-S 硫系玻璃制造红外偏振片
通过压印 Sb-Ge-Sn-S 硫系玻璃制造红外偏振片
DOI：
10.1143/jjap.51.012201
发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
--
作者：
[I. Yamada, N. Yamashita, Kunihiko Tani, T. Einishi, M. Saito, K. Fukumi, J. Nishii]
通讯作者：
J. Nishii
Fabrication of Silicone Grating by Two-Beam Interference Method and Imprint Lithography
双光束干涉法和压印光刻法制作硅胶光栅
双光束干涉法和压印光刻法制作硅胶光栅
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Y. Ikeda, T. Higuchi and *I. Yamada]
通讯作者：
T. Higuchi and *I. Yamada
ゾル-ゲル法とインプリント法による赤外用ワイヤグリッド偏光子の作製"
《溶胶凝胶法和压印法制备红外线栅偏振片》
《溶胶凝胶法和压印法制备红外线栅偏振片》
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Y. Ikeda, T. Higuchi and *I. Yamada, I. Yamada and Y. Ishihara, I. Yamada and Y. Ishihara, 池田優祐，山田逸成, 池田優祐，山田逸成, I. Yamada, 池田優祐，石原吉朗，*山田逸成]
通讯作者：
池田優祐，石原吉朗，*山田逸成
共 15 条
Fabrication of infrared devices via anisotropical Si etching in KOH solution
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批准号：19K05315
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$2.83万
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财政年份：2019
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负责人：Yamada Itsunari
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依托单位：
海外基金