Grundlagen der Reaktionskinetik von schichtbildenden Atmosphärendruckplasmen

点击翻译按钮获取中文摘要

Im Projekt werden reaktionskinetische Phänomene bei der plasmagestützten Schichtabscheidung unter Normaldruck, insbesondere bei Einsatz von siliziumorganischen Precursoren untersucht. Hierzu werden die zeitabhängigen plasmachemischen Prozesse lokal wirkender modulierter Atmosphärendruckplasmen experimentell erfasst und wesentliche molekulare Reaktionsbestandteile ermittelt, um die Gasphasen- und Oberflächenreaktionen bilanzieren zu können. Als Grundlage der Prozessoptimierung soll hiermit ein grundlegendes Verständnis der im Plasma und bei der Schichtbildung ablaufenden Prozesse erreicht werden. Dadurch können ein verringerter Gasverbrauch sowohl bei der Prozessentwicklung als auch der Prozessdurchführung sowie eine verbesserte Precursorausnutzung erreicht werden.