Modellierung der reaktiven Prozesse bei der Abscheidung von siliziumhaltigen Oxidschichten mittels lokal wirksamer Atmosphärendruckplasmaquelle

使用局部有效大气压等离子体源对含硅氧化物层沉积的反应过程进行建模

• 批准号: 213099267
• 负责人: Privatdozent Dr. Detlef Loffhagen
• 金额: --
• 依托单位: Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e.V. (INP)
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Grants
• 财政年份: 2012
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2011-12-31 至 2014-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/213099267?language=en
• 关键词: Modellierung; der; reaktiven; Prozesse; bei

Gegenstand des Vorhabens ist die Analyse der Volumen- und Oberflächenprozesse, die bei Anwendung eines nichtthermischen Atmosphärendruck-HF-Kapillarplasmas maßgeblich zur Erzeugung siliziumhaltiger Oxidschichten auf einem Substrat führen. Die Untersuchungen erfolgen mittels hydrodynamischer Modellierung unter Berücksichtigung der Plasmachemie und der Schichtbildungsprozesse. Der hohe Komplexitätsgrad der beteiligten Prozesse erfordert eine enge Kopplung der Modellierung mit experimentellen Untersuchungen der im Volumen erzeugten Teilchen sowie der Struktur und Zusammensetzung der Schicht. Ziel ist das bessere Verständnis der plasmachemischen Reaktionspfade und ihre Wirkung auf Zusammensetzung und Struktur der abgeschiedenen Schicht. Insbesondere soll der Einfluss der Betriebsbedingungen, wie Strömungsgeschwindigkeit von Prozess- und Reaktivgas, Leistungseinkopplung und Gemischzusammensetzung, auf die Schichtbildung analysiert werden. Die Sensitivitätsanalyse mittels breiter Parametervariation kann praxisorientierte Beiträge zur Optimierung der Effizienz des Umsatzes der reaktiven Beimischungen bei der Abscheidung liefern.

Gegenstand des Vorhabens is die Analyse der Volumen- und Oberflächenprozesse，die bei Anwendung eines nichtthermischen Atmosphere ärendruck-HF-Kapillarplasmas maßgeblich zur Erzeugung siliziumhaltiger Oxidschichten auf einem Substrat führen. Die Untersuchungen erfolgen mittels Hydrodynamischer Modellierung unter Berücksichtigung der Plasmachemie und der Schichtbildungsprozesse.这是一个复杂的复杂过程，它需要一个模型，并通过实验来研究结构和结构的体积。Ziel ist das bessere Verständnis der plasmachemischen Reaktionspfade und ihre Wirkung auf Zusammensetzung und Struktur der abgeschiedenen Schicht.在韦尔登分析过程中，由于过程和反应气体的相互作用、教育的相互作用和教育的相互影响，教育对教育的影响也是存在的。灵敏度分析包括参数变化，可用于优化吸收系数的灵敏度。

项目成果

Breakdown characteristics in pulsed-driven dielectric barrier discharges: influence of the pre-breakdown phase due to volume memory effects

• DOI: 10.1088/0022-3727/47/46/465206
• 发表时间: 2014-11
• 期刊: Journal of Physics D: Applied Physics
• 作者: H. Höft;M. Kettlitz;M. Becker;T. Hoder;Detlef Loffhagen;Ronny Brandenburg;K. Weltmann

Stability and excitation dynamics of an argon micro-scaled atmospheric pressure plasma jet

• DOI: 10.1088/0963-0252/24/6/065018
• 发表时间: 2015-12-01
• 期刊: PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY
• 影响因子: 3.8
• 作者: Duennbier, M.;Becker, M. M.;Weltmann, K-D
• 通讯作者: Weltmann, K-D