Modellierung der reaktiven Prozesse bei der Abscheidung von siliziumhaltigen Oxidschichten mittels lokal wirksamer Atmosphärendruckplasmaquelle

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Gegenstand des Vorhabens ist die Analyse der Volumen- und Oberflächenprozesse, die bei Anwendung eines nichtthermischen Atmosphärendruck-HF-Kapillarplasmas maßgeblich zur Erzeugung siliziumhaltiger Oxidschichten auf einem Substrat führen. Die Untersuchungen erfolgen mittels hydrodynamischer Modellierung unter Berücksichtigung der Plasmachemie und der Schichtbildungsprozesse. Der hohe Komplexitätsgrad der beteiligten Prozesse erfordert eine enge Kopplung der Modellierung mit experimentellen Untersuchungen der im Volumen erzeugten Teilchen sowie der Struktur und Zusammensetzung der Schicht. Ziel ist das bessere Verständnis der plasmachemischen Reaktionspfade und ihre Wirkung auf Zusammensetzung und Struktur der abgeschiedenen Schicht. Insbesondere soll der Einfluss der Betriebsbedingungen, wie Strömungsgeschwindigkeit von Prozess- und Reaktivgas, Leistungseinkopplung und Gemischzusammensetzung, auf die Schichtbildung analysiert werden. Die Sensitivitätsanalyse mittels breiter Parametervariation kann praxisorientierte Beiträge zur Optimierung der Effizienz des Umsatzes der reaktiven Beimischungen bei der Abscheidung liefern.