Optisches Laserlithographiesystem zur Nanostrukturierung

2014年1月，Münzenberg教授在德国格赖夫斯瓦尔德大学物理研究所进行了一次新的光刻实验。Das Nanolithographiessoll in folgenden Projekten eingesetzt韦尔登werden：Nanostrukturierung von Tunnelelelementen und Bondpads，Strukturierung von Hallbars für Topologische Isolatoren，Strukturierung magnonischer Kristalle（mehrkomponentig），flexible Nutzung für Lithographieprojekte in Kooperation，z.B. Medizin und Pharmazie（Strukturierung für Mikrometersäulen als Zelluntergrund，Mikrofluidikkanäle）und Lithographieservice Institut für Physik und Institut für Niedertemperaturplasmaphysik. In der beantragten Version können relativ große Flächen in kurzer Zeit geschrieben韦尔登.气流在150纳米以下。

Die Anschaffung des Lithographiesystem steht im Zusammenhang mit der Neuberufung von Prof. Münzenberg im Januar 2014 an das Institut für Physik der Universität Greifswald und dient zur Erstausstattung der Professur. Das Nanolithographiesystem soll in folgenden Projekten eingesetzt werden: Nanostrukturierung von Tunnelelementen und Bondpads, Strukturierung von Hallbars für Topologische Isolatoren, Strukturierung magnonischer Kristalle (mehrkomponentig), flexible Nutzung für Lithographieprojekte in Kooperationen, z.B. Medizin und Pharmazie (Strukturierung für Mikrometersäulen als Zelluntergrund, Mikrofluidikkanäle) und Lithographieservice Institut für Physik und Institut für Niedertemperaturplasmaphysik. In der beantragten Version können relativ große Flächen in kurzer Zeit geschrieben werden. Die Auflösung liegt unter 150 nm.