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Laserlithographiesystem zur dreidimensionalen additiven Mikro- und Nanofertigung

用于三维增材微纳制造的激光光刻系统

基本信息

批准号：
384724422
负责人：
金额：
--
依托单位：
Universität Münster
依托单位国家：
德国
项目类别：
Major Research Instrumentation
财政年份：
2017
资助国家：
德国
起止时间：
2016-12-31 至无数据
项目状态：
未结题

来源：
https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/384724422?language=en
关键词：
Laserlithographiesystem zur dreidimensionalen additiven Mikro

项目摘要

Für geplante Forschungsarbeiten im Bereich der Nano- und Quantenphotonik, der Zellmechanik und für die Realisierung neuartiger Template für Zellkulturen ist ein Laserlithographiesystem (LLS) zur Herstellung dreidimensionaler Mikro- und Nanostrukturen erforderlich. Das LLS soll für interdisziplinäre Arbeiten in den Fachbereichen Physik, Biologie, und Medizin eingesetzt werden und die bestehenden Möglichkeiten zur planaren Lithographie in die dritte Dimension erweitern. Im Rahmen der Neuberufung von Prof. W. Pernice und dem strategischen Ausbau der Nanowissenschaften an der Universität Münster soll das LLS beschafft werden, um die Arbeitsfähigkeit der Gruppe zu gewährleisten und den Schwerpunkt Nanophysik zu stärken. Insbesondere für die geplanten Arbeiten im Bereich der Nanophotonik ist eine räumliche Auflösung unterhalb von einem Mikrometer essentiell, sowie eine hohe Schreibgeschwindigkeit um auch makroskopische Strukturen mit feinen Abmessungen realisieren zu können. Momentan ist an der WWU kein vergleichbares Gerät verfügbar so dass bisher nur planare Nanostrukturen großflächig herstellbar sind. Mittels des LLS sollen insbesondere hybride Systeme realisiert werden, die Nanostrukturen auf mehreren Substraten zu komplexen Systemen kombinieren. Darüber hinaus ist es ein zentrales Anliegen durch dreidimensionale Nanostrukturen neue Forschungsfelder im Bereich der weichen Nanowissenschaften über die Fachbereichsgrenzen hinaus zu erschließen. Das Neugerät soll im Betrieb innerhalb des Reinraums des Zentrums für Nanotechnologie (CeNTech) einem breiten Nutzerkreis zugänglich gemacht werden.

Für geplante Forschungsarbeiten im Bereich der Nano- und Quantenphotonik，der Zellmechanik und für die Realisierung neuartiger Template für Zellkulturen is ein Laserlithographieslag（LLS）zur Herstellung dreidimensionaler Mikro- und Nanostrukturen erforderlich. LLS是物理学、生物学和医学领域的跨学科工作者的韦尔登，并在三维平面光刻中获得最佳的Möglichkeiten。我是W.明斯特大学的纳米技术研究所的前景和战略需要韦尔登的支持，以使Gruppe集团的工作更有效率，并使纳米物理学更有效率。Insbesondere für die geplanten Arbeiten im Bereich der Nanophotonik ist eine räumliche Auflösung unterhalb von einem Mikrometer essentiell，sowie eine hohe Schreibgeschwindigkeit um auch makroskopische Strukturen mit feinen Abmessungen realisieren zu können.目前，WWU并没有任何迹象表明，纳米结构是一个巨大的平面。LLS sollen的中间体是实现韦尔登的纳米结构，它是一种复合系统。Darüber hinaus is ein zentrales Anliegen durch dreidimensionale Nanostrukturen neue Forschungsfelder im Bereich der weichen Nanowissenschaften über die Fachbereichsengzen hinaus zu erschließen. Das Neugerät soll im Betrieb innerhalb des Reinraums des Zentrums für Nanotechnologie（CeNTech）einem breiten Nutzerkreis zugänglich gemacht韦尔登.