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Laserlithographiesystem für dreidimensionale maskenlose Probenherstellung im sub-mikrometer Bereich

Laserlithographiesystem für dreidimensionale maskenlose Probenherstellung im sub-mikrometer Bereich
用于亚微米范围内三维无掩模样品生产的激光光刻系统
批准号:
411064579
负责人:
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Major Research Instrumentation
财政年份:
2018
资助国家:
德国
项目状态:
未结题
起止时间:
2017-12-31 至 --

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
研究纳米光子学和等离子体学,研究纳米光子学和纳米光子学,研究纳米光子学和纳米光子学,研究纳米光子学和纳米光子学。Während [r]纳米结构在微电子光刻中的应用[j]; [e]; [e]; [e];激光光刻系统的研究进展:激光光刻系统的研究进展:Präzision和Geschwindigkeit。Die kleinsten mit diesem System herstellbaren Strukturen weisen eine Größenordnung von etwa 200纳米auf, and können daher idealerweise mit durch elekronenstrahllithography erzeugten Nanostrukturen verkn<s:1> pft werden。Neben Anwendungen在der maskenlosen光刻技术中与Gerät insbesonderere auch zur Herstellung dredimensionaler Strukturen mit Abmessungen von nur wenige in hunderm纳米zur Erforschung von Energieumwandlungsprozessen fr die光催化eingesetzden。desweteren wind es as die Herstellung von deididimensionalen Lichtkäfigen f<e:1> r Spektroskopie and夜间线Optik mit atom Gasen ermöglichen。[3][1]系统风在新纳米技术研究所的应用[j]。Die not endigkeit der Anschaffung ergeppe是伦敦帝国理工学院和LMU的合作伙伴,而stellt ferner einen Teil der der zugesagten Erstausstattung meiner laborore是LMU的合作伙伴。
英文摘要
Unsere Forschung im Bereich der Nanophotonik und der Plasmonik beruht auf der Strukturierung von dünnen Schichten und Wellenleitern mit Abmessungen zwischen wenigen Nanometern bis zu mehreren Mikrometern. Während für Nanostrukturierung im wesentlichen Elektronenstrahllithographie benutzt wird, erfordert unsere Forschung auch genaueste Einbettung dieser Nanostrukturen in ein mikrostrukturiertes Umfeld. Das in diesem Antrag beschriebene Laserlithographiesystem ermöglicht dies mit hoher Präzision und Geschwindigkeit. Die kleinsten mit diesem System herstellbaren Strukturen weisen eine Größenordnung von etwa 200 Nanometern auf, und können daher idealerweise mit durch Elektronenstrahllithographie erzeugten Nanostrukturen verknüpft werden. Neben Anwendungen in der maskenlosen Lithographie wird das Gerät insbesondere auch zur Herstellung dreidimensionaler Strukturen mit Abmessungen von nur wenige n hundert Nanometern zur Erforschung von Energieumwandlungsprozessen für die Photokatalyse eingesetzt werden. Desweiteren wird es uns die Herstellung von dreidimensionalen Lichtkäfigen für Spektroskopie und nichtlineare Optik mit atomaren Gasen ermöglichen. Das System wird in einem von der Gruppe geleiteten Labor in dem neuen Nanoinstitut München der LMU untergebracht werden. Die Notwendigkeit der Anschaffung ergibt sich zudem insbesondere durch den Umzug meiner Forschergruppe vom Imperial College London an die LMU, und stellt ferner einen Teil der mir zugesagten Erstausstattung meiner Labore in dem neuen Institut dar.
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