Laserlithographiesystem für dreidimensionale maskenlose Probenherstellung im sub-mikrometer Bereich

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Unsere Forschung im Bereich der Nanophotonik und der Plasmonik beruht auf der Strukturierung von dünnen Schichten und Wellenleitern mit Abmessungen zwischen wenigen Nanometern bis zu mehreren Mikrometern. Während für Nanostrukturierung im wesentlichen Elektronenstrahllithographie benutzt wird, erfordert unsere Forschung auch genaueste Einbettung dieser Nanostrukturen in ein mikrostrukturiertes Umfeld. Das in diesem Antrag beschriebene Laserlithographiesystem ermöglicht dies mit hoher Präzision und Geschwindigkeit. Die kleinsten mit diesem System herstellbaren Strukturen weisen eine Größenordnung von etwa 200 Nanometern auf, und können daher idealerweise mit durch Elektronenstrahllithographie erzeugten Nanostrukturen verknüpft werden. Neben Anwendungen in der maskenlosen Lithographie wird das Gerät insbesondere auch zur Herstellung dreidimensionaler Strukturen mit Abmessungen von nur wenige n hundert Nanometern zur Erforschung von Energieumwandlungsprozessen für die Photokatalyse eingesetzt werden. Desweiteren wird es uns die Herstellung von dreidimensionalen Lichtkäfigen für Spektroskopie und nichtlineare Optik mit atomaren Gasen ermöglichen. Das System wird in einem von der Gruppe geleiteten Labor in dem neuen Nanoinstitut München der LMU untergebracht werden. Die Notwendigkeit der Anschaffung ergibt sich zudem insbesondere durch den Umzug meiner Forschergruppe vom Imperial College London an die LMU, und stellt ferner einen Teil der mir zugesagten Erstausstattung meiner Labore in dem neuen Institut dar.