Upgrade einer Elektronenstrahl-Lithographieanlage

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Die Elektronenstrahllithographieanlage des Instituts für Nanostrukturtechnologie und Analytik (INA) ist ein zentrales Großgerät für die Nanostrukturierung von Halbleiter- und Festkörpersystemen und wird in einer Vielzahl von Forschungsprojekten von beiden Forschergruppen eingesetzt. Der beantragte upgrade ist wichtig, die mittlerweile 10 Jahre alte Anlage wieder auf den aktuellen Stand zu bekommen in Hinblick auf Software und Hardwarefunktionalität. Für die aktuelle Konfiguration wird vom Hersteller in Zukunft kein Service mehr angeboten werden. Dieses up-grade beinhaltet eine Reihe von Verbesserungen, die Defizite der bisherigen Anlage beseitigen oder erheblich reduzieren. Durch schnellere Deflektoren und Softwareverbesserungen wird ein höherer Schreibdurchsatz möglich, der die aktuellen Kapazitätsprobleme reduzieren wird. Der up-grade führt einen neuen Schreibmodus ein, bei dem der Elektronenstrahl quasi fest steht und nur der Tisch verfahren wird. Damit ist es erstmals möglich größere Strukturen ohne Anpassungsfehler (stitching errors) zu schreiben. Dies ist besonders wichtig für Gitterstrukturen für Laser und photonische Kristallstrukturen. Mit dem im up-grade beinhalteten Schleusensystem sollte zudem die Strahldrift erheblich reduziert werden, die momentan erhebliche Probleme bereitet bei mehrstündigen Belichtungsvorgängen.