Upgrade einer Elektronenstrahl-Lithographieanlage

Die elektronenstrahllithography anage des Instituts <e:1> r纳米结构技术与分析（INA） ist in zentrales Großgerät r Die Nanostrukturierung von Halbleiter- und Festkörpersystemen and wid in iner Vielzahl von Forschungsprojekten von beiden Forschergruppen eingesetzt。该beantragte升级列表为whichtig、die mitmitle和10 jaahre，在Hinblick auf Software基金Hardwarefunktionalität中使用了该数据库。在Zukunft kein Service服务中，采用了一种新型的、由赫斯特勒（Hersteller）提供的新型的、具有弹性的配置方法。德国人对德国人的评价是：德国人对德国人的评价是：德国人对德国人的评价是：德国人对德国人的评价是：德国人对德国人的评价是：Durch schnellere Deflektoren and Softwareverbesserungen wind in höherer Schreibdurchsatz möglich, der die aktuellen Kapazitätsprobleme reduzieren wind。Der升级f<s:1> hrt einen neuen Schreibmodus ein， bedem Der Elektronenstrahl quasest est est和nder Tisch verfahren wind。Damit ist es erstals möglich größere struckturen ohne Anpassungsfehler（拼接错误）zu schreiben。分类分类：激光、激光、光子、晶体、激光、激光。在此基础上，我们进一步完善了Schleusensystem，并在此基础上进一步完善了Schleusensystem。

Die Elektronenstrahllithographieanlage des Instituts für Nanostrukturtechnologie und Analytik (INA) ist ein zentrales Großgerät für die Nanostrukturierung von Halbleiter- und Festkörpersystemen und wird in einer Vielzahl von Forschungsprojekten von beiden Forschergruppen eingesetzt. Der beantragte upgrade ist wichtig, die mittlerweile 10 Jahre alte Anlage wieder auf den aktuellen Stand zu bekommen in Hinblick auf Software und Hardwarefunktionalität. Für die aktuelle Konfiguration wird vom Hersteller in Zukunft kein Service mehr angeboten werden. Dieses up-grade beinhaltet eine Reihe von Verbesserungen, die Defizite der bisherigen Anlage beseitigen oder erheblich reduzieren. Durch schnellere Deflektoren und Softwareverbesserungen wird ein höherer Schreibdurchsatz möglich, der die aktuellen Kapazitätsprobleme reduzieren wird. Der up-grade führt einen neuen Schreibmodus ein, bei dem der Elektronenstrahl quasi fest steht und nur der Tisch verfahren wird. Damit ist es erstmals möglich größere Strukturen ohne Anpassungsfehler (stitching errors) zu schreiben. Dies ist besonders wichtig für Gitterstrukturen für Laser und photonische Kristallstrukturen. Mit dem im up-grade beinhalteten Schleusensystem sollte zudem die Strahldrift erheblich reduziert werden, die momentan erhebliche Probleme bereitet bei mehrstündigen Belichtungsvorgängen.