Upgrade einer Elektronenstrahl-Lithographieanlage

电子束光刻系统的升级

• 批准号: 289212529
• 金额: --
• 依托单位: Universität Kassel
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Major Research Instrumentation
• 财政年份: 2015
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2014-12-31 至 无数据
• 项目状态: 未结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/289212529?language=en
• 关键词: Upgrade; einer; Elektronenstrahl; Lithographieanlage

Die Elektronenstrahllithographieanlage des Instituts für Nanostrukturtechnologie und Analytik (INA) ist ein zentrales Großgerät für die Nanostrukturierung von Halbleiter- und Festkörpersystemen und wird in einer Vielzahl von Forschungsprojekten von beiden Forschergruppen eingesetzt. Der beantragte upgrade ist wichtig, die mittlerweile 10 Jahre alte Anlage wieder auf den aktuellen Stand zu bekommen in Hinblick auf Software und Hardwarefunktionalität. Für die aktuelle Konfiguration wird vom Hersteller in Zukunft kein Service mehr angeboten werden. Dieses up-grade beinhaltet eine Reihe von Verbesserungen, die Defizite der bisherigen Anlage beseitigen oder erheblich reduzieren. Durch schnellere Deflektoren und Softwareverbesserungen wird ein höherer Schreibdurchsatz möglich, der die aktuellen Kapazitätsprobleme reduzieren wird. Der up-grade führt einen neuen Schreibmodus ein, bei dem der Elektronenstrahl quasi fest steht und nur der Tisch verfahren wird. Damit ist es erstmals möglich größere Strukturen ohne Anpassungsfehler (stitching errors) zu schreiben. Dies ist besonders wichtig für Gitterstrukturen für Laser und photonische Kristallstrukturen. Mit dem im up-grade beinhalteten Schleusensystem sollte zudem die Strahldrift erheblich reduziert werden, die momentan erhebliche Probleme bereitet bei mehrstündigen Belichtungsvorgängen.

Die Elektronenstrahlithographieanage des Instituts für Nanostrukturtechnologie und Analytik（INA）ist ein zentrales Großgerät für die Nanostrukturierung von Halbleiter- und Festkörpersystemen und wird in einer Vielzahl von Forschungsprojekten von beiden Forschergruppen eingesetzt.这是一个很好的升级，10年前的旧版本将在软件和硬件功能上支持Hinblick。为方便韦尔登使用，Hersteller将提供梅尔服务。这一等级的提高是一个障碍，障碍是由一个较好的地方或一个较低的地方造成的。Denschnellere Deflektoren und Softwareverbesserungen wird ein höherer Schreibdurchämmöglich，der die aktuellen Kapazitätsprobleme reduzieren wird.这一升级的新的Schreibmodus ein，bei dem der Elektronenstrahl quasi fest steht and努尔der Tisch verfahren wird. Damit ist es erstmals möglich größere Strukturen ohne Anpassungsfehler（stitching errors）zu schreiben. Dies ist besonders wichtig für Gitterstrukturen für Laser und photonische Kristallstrukturen.尽管升级的吸入系统解决了减少韦尔登排放的问题，但目前的问题仍然存在。