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１００MHz動作を狙ったサブミクロン軟磁性微粒子内包アルミナテンプレートの創成

针对 100MHz 运行的含有亚微米软磁颗粒的氧化铝模板的创建

基本信息

批准号：
21K04162
负责人：
藤田直幸
金额：
$ 2.66万
依托单位：
Nara National College of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2021
资助国家：
日本
起止时间：
2021-04-01 至 2025-03-31
项目状态：
未结题

项目摘要

近年，100MHz帯で動作する次世代のスイッチング電源が必要とされているが，インダクタ用磁性材料の開発が遅れている。高周波下で高い透磁率を維持させるためには，反磁界や渦電流を抑制する必要がある。そこで，本研究では，ポーラスアルミナテンプレートのサブμmの孔に磁性微粒子を内包した新規磁性材料を提案し，マイクロインダクタへの応用を目指している。令和４年度は磁性微粒子の充填率を80%以上にすることを目標に，ポーラスアルミナテンプレートの孔占有率の向上に取り組んだ。特に，陽極酸化後のアルミナの孔径を拡大するエッチング工程時に隣り合う孔が結合する問題を解決することに注力した。エッチングで孔が結合するのは，孔の配列が不規則であることに起因しているため，高規則化したアルミナテンプレートを得ることを目的に以下の１）～３）の取り組みを行った。１）Alの表面の傷にアルミナの孔の配列が影響されないようにするためにAl素地表面の平滑化を検討した。その結果，円柱状のAl棒を電解研磨することで，光沢のある表面が得られることが分かった。２）二段階アノード酸化法により，高規則化したアルミナの作製を試みた。１回目のアルミナ膜が作った規則正しい凹凸に従って２回目のアルミナ膜が形成されるため，アルミナの規則化が進んだ。３）シュウ酸にリン酸を加えた溶液を使うことで，孔の高配列化が実現できることも確かめられた。その結果，電解研磨したAlを使って，二段階アノード酸化すれば，60分のエッチングで孔占有率約77%を示すアルミナテンプレートが得られることが分かった。

In recent years, 100MHz operating power supplies and next-generation power supplies have been developed using magnetic materials. It is necessary to maintain high magnetic permeability under high frequency, and it is necessary to suppress eddy current in the diamagnetic field.そこで, this study is carried out, ポーラスアルミナテンプレートのサブμmのporeにMagnetic microparticles The inner package contains a new magnetic material, a new magnetic material, and a new magnetic material. In the fourth year of Reiwa, the filling rate of magnetic microparticles is 80% or more, and the target of the filling rate of magnetic particles is 80% or more. Specially, the aperture of the anodic acid after anodic acidification is large, and the problem of combining the hole with the large hole in the project is solved by focusing on the problem.エッチングでporeがcombinationするのは,pore arrangementがirregularであることにcauseしているため,high regulation Then change the したアルミナテンプレートをget the ることをpurposeにthe followingの1)～３)のGETりgroupみを行った. 1) The Al surface is damaged and the hole arrangement is affected by the Al surface smoothing. As a result, the columnar Al rod was electrolytically polished and the surface was polished and the surface was divided into two parts. 2) Two-stage acidification method, high-regulation acidification test. 1st episode of のアルミナ片が作った正しいconvex and concave に従って 2nd episode The のアルミナが film is formed and the アルミナのregularization is advanced. ３) The シュウ acid にリン acid を is added to the えた solution to make it うことで, and the pores are highly aligned and the できることも is confirmed to be かめられた. The result is electrolytic grinding of aluminum, two-stage acidification, and 60-minute polishing. The occupancy rate of the チングでhole is about 77%.