课题基金 / 基金详情

Bistability of liquid crystal bulk induced by topological surface alignment patterns

Bistability of liquid crystal bulk induced by topological surface alignment patterns
拓扑表面排列图案引起的液晶体的双稳定性
批准号:
21K04867
负责人:
本間 道則
金额:
$1.58万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2021
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2021-04-01 至 2024-03-31

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
トポロジカル不変量が+1となるラビングパターンを描画することによって液晶セルを作製し、ラビングパターンの形状が遷移過程に与える影響について考察した。マイクロラビングを行った基板には水平配向膜を用い、対向基板には垂直配向膜を採用した。これらの基板を、ガラススペーサ(直径:10μm)を介して組み合わせることによってサンドイッチセルとした。さらに、2枚の基板のギャップに液晶(5CB)を注入し評価セルとした。評価セルにおける液晶の配向パターンは3つの異なる方向にラビングしたサブドメインから成る。それぞれのサブドメインのラビング角の組み合わせと、双安定性の実現可能性について実験により考察した。その結果、双安定性を実現するために適したラビング角の組み合わせが存在することが明らかとなった。ラビング角の組み合わせに応じて液晶層に蓄積された配向ひずみのエネルギーが異なり、そのため、安定状態から準安定状態への転移のしやすさがラビング角に依存する結果になったと考えられる。次に、ラビングパターンの繰り返し単位(ユニットセル)の形状が双安定性に与える影響について考察した。具体的には、ユニットセルの形状を菱形(平行四辺形)とし、菱形領域の面積を一定に保った状態で、頂角を15~75°の間で変化させたときの配向遷移率を求めた。ここで、ユニットセル100個あたりの配向が遷移したユニットセル数を配向遷移率と定義した。実験により、配向遷移率が0から100%に急激に変化するクリティカルな頂角が存在すること、そのような特徴的な頂角は菱形領域の面積に依存することなどの興味深い結果が得られた。さらに、このような配向遷移率の挙動について、ラビング角とサブドメインの境界の長さを組み合わせたエネルギーモデルにより説明できることを示した。
英文摘要
トポロジカル不変量が+1となるラビングパターンを描画することによって液晶セルを作製し、ラビングパターンの形状が遷移過程に与える影響について考察した。マイクロラビングを行った基板には水平配向膜を用い、対向基板には垂直配向膜を採用した。これらの基板を、ガラススペーサ(直径:10μm)を介して組み合わせることによってサンドイッチセルとした。さらに、2枚の基板のギャップに液晶(5CB)を注入し評価セルとした。評価セルにおける液晶の配向パターンは3つの異なる方向にラビングしたサブドメインから成る。それぞれのサブドメインのラビング角の組み合わせと、双安定性の実現可能性について実験により考察した。その結果、双安定性を実現するために適したラビング角の組み合わせが存在することが明らかとなった。ラビング角の組み合わせに応じて液晶層に蓄積された配向ひずみのエネルギーが異なり、そのため、安定状態から準安定状態への転移のしやすさがラビング角に依存する結果になったと考えられる。次に、ラビングパターンの繰り返し単位(ユニットセル)の形状が双安定性に与える影響について考察した。具体的には、ユニットセルの形状を菱形(平行四辺形)とし、菱形領域の面積を一定に保った状態で、頂角を15~75°の間で変化させたときの配向遷移率を求めた。ここで、ユニットセル100個あたりの配向が遷移したユニットセル数を配向遷移率と定義した。実験により、配向遷移率が0から100%に急激に変化するクリティカルな頂角が存在すること、そのような特徴的な頂角は菱形領域の面積に依存することなどの興味深い結果が得られた。さらに、このような配向遷移率の挙動について、ラビング角とサブドメインの境界の長さを組み合わせたエネルギーモデルにより説明できることを示した。
期刊论文(1)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
DOI: --
发表时间: 2023
期刊:
影响因子: --
作者: [Shen Jiabin, Jia Shujing, Shi Nannan, Ge Qingqin, Gotoh Tamihiro, Lv Shilong, Liu Qi, Dronskowski Richard, Elliott Stephen R., Song Zhitang, Zhu Min, 佐久間涼子,林冠廷,金鮮美,木村文信 ,梶原優介, 任田幸生,本間道則,伊東良太,能勢敏明]
通讯作者: 任田幸生,本間道則,伊東良太,能勢敏明
任意の液晶分子配向パターンを形成する新規な微小領域ラビング処理技術の開発
  • 批准号:
    14750016
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 资助金额:
    $1.6万
  • 财政年份:
    2002
  • 负责人:
    本間 道則
  • 依托单位:
海外基金