ニトロキシル型触媒によるC-H酸化反応の開発
ニトロキシル型触媒によるC-H酸化反応の開発
批准号:
21K06487
负责人:
浜田 翔平
金额:
$2.75万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2021
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2021-04-01 至 2024-03-31
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これまでに開発している電子求引基であるエステル基を二つ持つニトロキシル型触媒1よりも高活性な触媒の開発を目指して前年度に合成したエステル基を4つ持つ触媒の酸化活性を評価したが、1と比較すると反応性が低下した。そこで、触媒1を用いた酸化に酸を添加することで、反応活性種のオキソアンモニウムの活性が向上する可能性があると考え、種々の酸を検討した。その結果、ヘキサフルオロイソプロパノール(HFIP)を加えることで、これまで達成できていなかった触媒1を用いた非環状のベンジル位のC-H結合の酸化が可能であることが明らかになった。また、本反応の検討中にアルコールの保護体であるシリルエーテルのカルボニル化合物の酸化に触媒1が有用であることも明らかにできた。本法はこれまでほとんど報告例のない、複数のシリルエーテルの存在下、ベンジル、アリル位のシリルエーテル選択的な変換を可能とする手法である。すなわち、アルコールの保護、脱保護に新たな選択肢を与える成果であり、医薬品や天然化合物の合成に有用であると考える。さらに、本反応のメカニズム解析により、シリルエーテルの酸化において、共酸化剤(ビス(トリフルオロアセトキシ)ヨード)ベンゼン(PIFA)由来のトリフルオロ酢酸が反応の加速に関与することが分かった。さらに、密度汎関数理論(DFT)計算により、本反応の活性種であるオキソアンモニウム塩と触媒のエステル基間のπ-π相互作用が反応の加速に寄与していることが示唆された。
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ベンジル・アリル位のシリルエーテル選択的酸化反応の開発
苄基和烯丙基位置选择性硅醚氧化反应的进展
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[浜田翔平, 阪本圭織, 宮崎瑛梨, 小林祐輔, 川端猛夫, 古田 巧]
通讯作者:
古田 巧
<i>N</i>-Acylimino-λ<sup>3</sup>-iodanes from the Metathesis of Iodosoarenes and Nitriles for the Photoinduced C?H Perfluoroacylamination of (Hetero)Arenes
来自碘代芳烃和腈的复分解的<i>N</i>-酰基亚氨基-λ<sup>3</sup>-碘用于(杂)芳烃的光诱导C?H全氟酰胺化
DOI:
10.1021/acs.orglett.2c02054
发表时间:
2022
期刊:
Organic Letters
影响因子:
5.2
作者:
[Kimura Tomohiro, Hamada Shohei, Furuta Takumi, Takemoto Yoshiji, Kobayashi Yusuke]
通讯作者:
Kobayashi Yusuke
DOI:
10.1016/j.tetlet.2021.153404
发表时间:
2021-09
期刊:
Tetrahedron Letters
影响因子:
1.8
作者:
[Shohei Hamada;K. Yano;Yusuke Kobayashi;T. Kawabata;T. Furuta]
通讯作者:
Shohei Hamada;K. Yano;Yusuke Kobayashi;T. Kawabata;T. Furuta
高度に電子不足なニトロキシルラジカルの合成と触媒活性評価
高缺电子硝酰自由基的合成及催化活性评价
DOI:
--
发表时间:
2023
期刊:
影响因子:
--
作者:
[山崎理香子, 檜木結衣, 浜田翔平, 小林祐輔, 古田 巧]
通讯作者:
古田 巧
ニトロキシルラシラジカルを触媒としたベンジル系保護基の脱保護
使用硝酰基酰基自由基作为催化剂对苄基保护基团进行脱保护
DOI:
--
发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
--
作者:
[浜田翔平, 角田舞子, 杉本晃一, Elghareeb E. Elboray, 小林祐輔, 川端猛夫, 古田巧]
通讯作者:
古田巧
共 16 条
位置選択的酸化触媒の開発
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批准号:11J03355
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$0.83万
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财政年份:2011
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负责人:浜田 翔平
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依托单位: